Nový blesk Fujifilm EF-X500

7. júl 2016

FUJIFILM Corporation (Prezident: Kenji Sukeno) oznamuje, že v septembri 2016 spoločnosť uvedie nový profesionálny multifunkčný externý blesk “Fujifilm EF-X500”.

EF-X500 je systémový blesk s maximálnym smerným číslom 50*1. Jeho podpora pre FP mód (vysokorýchlostná synchronizácia blesku) znamená, že blesk môže byť použitý pri akejkoľvek rýchlosti uzávierky. Fotograf sa môže nerušene sústrediť na fotografovanie i keď je vyžadovaná vyššia rýchlosť uzávierky, napríklad počas dňa.

EF-X500 taktiež podporuje ovládanie viacerých zábleskov. Ovládanie TTL merania expozície a intenzity záblesku je dostupné s jediným bleskom, ale aj pri použití v s viacerými bleskami, takže môžete fotografovať bez toho, aby ste museli vykonávať manuálne nastavenia svetelného výkonu.

Hlavné charakteristiky produktu

FP blesk (vysokorýchlostná synchronizácia blesku)

Pri kratších časoch ako je x-sync sa senzor exponuje štrbinou medzi prvou a druhou lamelou závierky, ktorá postupne prejde popred senzor. Z tohto dôvodu sa svetlo z bežného blesku dostane iba na malú časť senzora. Pre rovnomerné osvetlenie bleskom s krátkym expozičným časom precuje blesk v stroboskopickom režime (FP).  

EF-X500 podporuje FP mód (vysokorýchlostná synchronizácia blesku), pri ktorom blesk stroboskopicky osvetluje snímač, kým prvá a druhá lamela prechádza naprieč senzorom, a tým umožňuje fotografovanie s bleskom pri akejkoľvek rýchlosti uzávierky.

Vďaka vysokorýchlostnej synchronizácii s krátkymi časmi môžete plnohodnotne využívať maximálnu clonu objektívu a dosiahnuť tak pútavo rozostrené pozadie. 

Bezdrôtový multi-blesk TTL voľne regulujúci osvetlenie objektu a pozadia pre kreatívne fotografie

EF-X500 môžete použiť ako riadiacu jednotku na nastavenie viacerých bleskov. Pri viacerých bleskoch môžete využiť aj automatický režilm TTL, ktorý vám uľahčí nasvietenie celej scény. 

Blesky môžete zatriediť do troch skupín a každej skupine prideliť inú intenzitu záblesku tak, aby ste dosiahli najlepších výsledkov. 

Odolnosť voči prachu a poveternostným vplyvom rozširuje možnosti pri použití s fotoaparátmi X Série

EF-X500 je prvý Fujifilm blesk, ktorý je odolný voči prachu a poveternostným vplyvom. Pri použití s odolným telom fotoaparátu Fujifilm X vytvárajú dokonalú kombináciu do náročných podmienok. 

Ostatné vlastnosti produktu

• Smerné číslo 50 (ISO100) *1
• Zoom hlava má pokrytie 24 mm – 105 mm*2, 20 mm*2 pri použití so širokouhlou rozptilkou
• Hlava sa vyklápa v rozmedzí +90 stupňov, nadol o 10 stupňov, doľava o 135 stupňov a doprava o 180 stupňov
• Blesk je vybavený LED video osvetlením, ktoré sa môže tiež použiť aj ako AF asistenčné osvetlenie
• Umožňuje vytváranie presetov.
• *1 Pri uhle osvetlenia pre ohniskovú dĺžku 105 mm (ekvivalent 35 mm formátu)
• *2 ekvivalent 35 mm formátu
• Voliteľné príslušenstvo
• Jednotka batérií “EF-BP1”
• Externá jednotka batérií “EF-BP1” pojme osem AA batérií a slúži na skrátenie času nabíjania.

Produkt by mal byť dostupný v septembri 2016